當雙85試驗箱腔室機械系統從一種狀態(tài)變?yōu)榱硪环N狀態(tài)時(shí)，溫度和濕度控制可能會(huì )進(jìn)一步受到干擾。例如，一個(gè)斜坡步驟可能需要一個(gè)在高溫/低濕度下運行的腔室在“x"分鐘的跨度內同時(shí)變?yōu)榈蜏?高濕度。

　　與人們可能認為的相反，“冷卻"和“加濕"系統最初可能不需要運行，而是腔室控制系統簡(jiǎn)單地減少加熱和除濕輸出，允許腔室進(jìn)行受控漂移，遵循移動(dòng)設定點(diǎn)溫度和濕度。

　　然而，在該斜坡步驟期間的某個(gè)時(shí)間點(diǎn)，減少加熱和/或除濕無(wú)法提供追逐設定點(diǎn)所需的響應，并且控制器通過(guò)需要少量但穩定增加的冷卻和加濕輸出來(lái)為腔室冷卻和加濕系統供電。在這些轉換期間，溫度或濕度控制的短期波動(dòng)也很常見(jiàn)。

　　也可能存在循環(huán)配置文件的斜坡要求超過(guò)所使用的腔室能力的情況，但這些通常與腔室容量有關(guān)，而不是控制。